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Término solicitado: REAL, MARIANO/(22)

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Tipo de Docum.: artículo
Título: Differential measurement techniques using a programmable Josephson voltage standard
Autor: Luna, Estefanía; Schneider, Guillermo; Real, Mariano; Iuzzolino, Ricardo
Reunión: Universidad Nacional del Sur. UNS. Bahía Blanca. AR, Congreso Argentino de Electrónica, 2024, Bahía Blanca. AR, 2024
Idioma: eng
Datos de Edición: Bahía Blanca. AR. UNS. 2024.
Pág./Vol.: 4p.: fot.; tbls.; grafs.; il.
Descriptores:           Voltaje; Muestreo; Señales
Resumen: This work presents two methods to reconstruct a signal using differential sampling measurements. These measurements were obtained by measuring an AC signal generator against a Programmable Josephson Voltage Standard (PJVS). The main objective of both methods is to eliminate the ubiquitous transients and to reconstruct the signal of the generator under test. In such direction, the Root Mean Square (RMS) value of the digitized signal was obtained and compared using both methods with uncertainties of about 0.9 µV. Therefore, both methods can be applied to measure and characterize an AC generator with a direct traceability to the voltage primary standard reducing the effect of increasing steps and uncertainties in the traceability chain.

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Trabajo de INTI



Tipo de Docum.: documento de conferencia
Título: Generación de señales de espectro puro con el sistema Josephson pulsado
Autor: Iuzzolino, Ricardo; Pinto, Daniel; Real, Mariano; Tonina, Alejandra
Reunión: Instituto Nacional de Tecnología Industrial. INTI. Argentina, TecnoINTI edición 2022. Jornadas de Desarrollo Tecnológico e Innovación, 14, Buenos Aires. AR, 2022
Idioma: spa
Datos de Edición: Buenos Aires. AR. INTI. 2022.
Pág./Vol.: pag. varias: grafs.; fot.
Unidad técnica: INTI-Departamento de Metrología Cuántica.
Descriptores:           Generadores de señales; Generadores de pulsos; Superconductividad; Tensiones; Metrología

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Trabajo de INTI



Tipo de Docum.: artículo
Título: Graphene epitaxial growth on SiC(0001) for resistance standards
Autor: Real, Mariano; Lass, Eric A.; Liu, Fan-Hung; Shen, Tian; Jones, George R.; Soons, Johannes A.; Newell, David B.; Davydov, Albert V.; Elmquist, Randolph E.
Autor Instit.: INTI-Física y Metrología. Buenos Aires. AR; Institute of Electrical and Electronics Engineers. IEEE. New York. US
Título Ser./Col.: IEEE Transactions on instrumentation and measurement, Vol. 62, Nº 6, june 2013, pp.1454-1460
Idioma: eng
Datos de Edición: New York. US. IEEE. 2013.
Pág./Vol.: 7p.
Notas: Fuente: IEEE, de acuerdo a su política de copywright: "Los autores / empleadores pueden reproducir o autorizar a terceros a reproducir la Obra, material extraído literalmente de la Obra o trabajos derivados para el uso personal del autor o para uso de la empresa, siempre que se indique la fuente y el aviso de copyright de IEEE, no deben usarse las copias de ninguna manera que implique el respaldo de IEEE de un producto o servicio de cualquier empleador y las copias en sí no se ofrecen para la venta".
Unidad técnica: INTI-Física y Metrología.
Descriptores:           Resistencia eléctrica; Mediciones eléctricas; Difusión; Crecimiento; Morfología; Superficies; Grafito; Ensayos

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Trabajo de INTI



Tipo de Docum.: documento de conferencia
Título: Graphene epitaxial growth on SiC(0001) for resistance standards
Autor: Real, Mariano; Shen, Tian; Jones, George R.; Elmquist, Randolph E.; Soons, Johannes A.; Davydov, Albert V.
Autor Instit.: National Institute of Standards and Technology. NIST. Gaithersburg. US; INTI-Física y Metrología. Buenos Aires. AR
Reunión: Conference on precision electromagnetic measurements, Washington. US, 2012
Título Ser./Col.: CPEM 2012 Conference, pp. 600-601
Idioma: eng
Datos de Edición: New York. US. IEEE. 2012.
Pág./Vol.: 2p.
Notas: Fuente: IEEE, de acuerdo a su política de copywright: "Los autores / empleadores pueden reproducir o autorizar a terceros a reproducir la Obra, material extraído literalmente de la Obra o trabajos derivados para el uso personal del autor o para uso de la empresa, siempre que se indique la fuente y el aviso de copyright de IEEE, no deben usarse las copias de ninguna manera que implique el respaldo de IEEE de un producto o servicio de cualquier empleador y las copias en sí no se ofrecen para la venta".
Unidad técnica: INTI-Física y Metrología.
Descriptores:           Resistencia eléctrica; Mediciones eléctricas; Morfología; Superficies; Grafito; Ensayos

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Trabajo de INTI



Tipo de Docum.: documento de conferencia
Título: Characteristics of graphene for quantized hall effect measurements
Autor: Elmquist, Randolph E.; Shen, Tian; Real, Mariano; Calizo, Irene G.; Bush, Brian G.; He, Guowei; Yang, Yanfei; Klimov, Nikolai; Newell, David B.; Hight-Walker, Angela R.; Feenstra, Randall M.
Autor Instit.: National Institute of Standards and Technology. NIST. Gaithersburg. US; INTI-Física y Metrología. Buenos Aires. AR; Carnegie-Mellon University. Pittsburgh. US; Georgetown University. Washington. US
Reunión: Conference on precision electromagnetic measurements, Washington. US, 2012
Título Ser./Col.: CPEM 2012 Conference Digest, pp. 514-515
Idioma: eng
Datos de Edición: Gaithersburg. US. NIST. 2012.
Pág./Vol.: 2p.
Unidad técnica: INTI-Física y Metrología.
Descriptores:           Resistencia eléctrica; Mediciones eléctricas; Propiedades eléctricas; Propiedades físicas; Grafito; Ensayos

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Trabajo de INTI



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