Título/s: Estudio por microscopía de fuerza atómica de películas delgadas depositadas por PVD (physical vapor deposition) sobre Si (100)
Autor/es: Corengia, Pablo; Ybarra, Gabriel; Mendive, Damián; Egidi, Daniel; Fraigi, Liliana; Quinteiro, Mario; Moina, Carlos
Institución: Centro de Investigación y Desarrollo en Mecánica. INTI-Mecánica. Buenos Aires, AR
Centro de Investigación y Desarrollo en Electrodeposición y Procesos Superficiales. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR
Centro de Investigación y Desarrollo en Telecomunicaciones, Electrónica e Informática. INTI-Electrónica e Informática. Buenos Aires, AR
Editor: INTI-Mecánica
Palabras clave: Películas delgadas; Microscopía; Deposición; Topografía; Rugosidad de superficies
Idioma: spa
Fecha: 2000
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