Término solicitado: COBURN, J. W./(22)
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| Tipo de Docum.: | serie monográfica |
| Título: | Plasma etching and reactive etching |
| Autor: | Coburn, J. W. |
| Autor Instit.: | Americam Vacuum Society. AVM. California. Us |
| Título Ser./Col.: | American Vacuum Society Monograph Series |
| Idioma: | eng |
| Datos de Edición: | California. US. The Educational Commitee. American Vacuum Society. 1982. |
| Pág./Vol.: | 87p. |
| Descriptores: | Plasma; Física del plasma |
| Ubicación: | 533.92/C639 |
| Disponibilidad: | INTI-Córdoba |
Fin
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