Término solicitado: KHOKLE, W.S./(22)
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| Tipo de Docum.: | libro |
| Título: | Patterning of material layers in submicron region |
| Autor: | Tandon, U.S.; Khokle, W.S. |
| Idioma: | eng |
| Datos de Edición: | New York, US; Brisbane, GB; Toronto, CA; Singapore. SG. Wiley. 1993. |
| Pág./Vol.: | 183p. |
| Descriptores: | Microelectrónica; Dispositivos electrónicos; Micrones; Nanotecnología; Litografía; Electrones; Iones; Rayos X |
| Ubicación: | Electrónica/E-24 |
| Disponibilidad: | INTI-Electrónica |
Fin
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