Término solicitado: LIU, F.H./(22)
1 Registro/s encontrado/s en CAT+NORMA
| Tipo de Docum.: | documento de conferencia |
| Título: | Crecimiento epitaxial de grafeno en SiC(0001) para su aplicación como resistencia estándar |
| Autor: | Real, M.A.; Tonina, A.; Elmquist, R.E.; Lass, E.A.; Liu, F.H.; Soons, J. |
| Reunión: | Instituto Nacional de Tecnología Industrial. INTI. Buenos Aires. AR, TecnoINTI edición 2013. Jornadas Abiertas de Desarrollo, Innovación y Transferencia Tecnológica, 11, Buenos Aires. AR, 2013 |
| Idioma: | spa |
| Datos de Edición: | Buenos Aires. AR. INTI. 2013. |
| Pág./Vol.: | 2p. |
| Unidad técnica: | INTI-Física y metrología. |
| Descriptores: | Circuitos integrados; Carburos; Silicio |
 Ver Documento
| |
Trabajo de INTI |
|
Fin
[Página de Inicio] [Nueva Búsqueda][Página Anterior]