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Término solicitado: LECHO FLUIDIZADO/(65,175,265)

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Tipo de Docum.: congreso
Título: New processing technologies yearbook 1996
Autor: Chandarana, Dilip I.. ed.
Autor Instit.: National Food Processors Association. NFPA. Washington. US
Reunión: Annual new processing technologies symposium, 2, Washington. US, 1996
Idioma: eng
Datos de Edición: Washington. US. NFPA. 1996.
Pág./Vol.: 91p.
Descriptores: Alimentos; Tecnología de alimentos; Conservación de alimentos; Seguridad alimentaria; Microbiología de alimentos; Lecho fluidizado; Esterilización; Tubos electrónicos; Polvo; Desinfección; Dosimetría; Microorganismos; Campo eléctrico; Campo magnético; Membranas; Microondas; Presión; Temperatura; Termometría; Tratamientos térmicos; Sensores; Procesos químicos
  
Ubicación: CITECA/310
Disponibilidad: CITECA



Tipo de Docum.: informe
Título: Informes técnicos
Autor Instit.: Centro Nacional de Investigaciones en Componentes Electrónicos. CENICE. Buenos Aires. AR
Idioma: spa
Datos de Edición: Buenos Aires. AR. CITEFA. 1980.
Pág./Vol.: 4v.
Notas: Contenido: IT.PPH.000/03 acta de reunión sobre el circuito oscilador de subportadora; IT.PPH.000/04 resumen sbre las distintas reuniones referentes al oscilador de subportadora; IT.PPH.000/05 circuito oscilador de subportadora: prototipo discreto; IT.PPH.014/02 circuito híbrido para unidad receptora; IT.PPH.014/03 entrenamiento del Ing. Shoji; IT.PPH014/04 circuito híbrido para unidad receptora; IT.PPH.047/01 presupuesto para la fabricación de resistencias; IT.PPH.102/01 caracterización del sistema de avance de la boquilla del sistema de ajuste por erosión, modelo LAT 100; IT.PPH.116/01 fabricación de dispositivos para evaluación de confiabilidad: encapsulado plástico; IT.PPH.116/02 evaluación del comportamiento de encapsulado ante shock térmico; IT.PPH.116/03 caracterización del proceso de lecho fluido; IT.PPH.116/04 diagnóstico de falla por porosidad en encapsulado plástico; IT.PPH.120/01 estado actual del laboratorio fotográfico; IT.PPH.124/01 caracterización del cabezal de impresión de la impresora serigráfica marca Presco; IT.PPH.124/02 impresora serigráfica Presco, modelo AMI 22; IT.PPH.128/01 caracterización de los equipos de soldadura por termocompresión; IT.PPH.128/02 soldadura por termocompresión sobre pastas conductoras: determinación de parámetros óptimos; IT.PPH.128/03 caracterización del equipo de soldadura por termosónica; IT.PPH.128/04 soldadura por termocompresión sobre cápsulas TO: evaluación de parámetros; IT.PPH.138/01 caracterización del equipo de resuión Browne CC-1; IT.PPH.139/01 calibración de velocidad de cinta del horno por sinterizado Lindberg; IT.PPH.139/02 crecimiento de dióxido de silicio por métodos húmedo y seco a altas temperaturas; IT.PPH.311/01 verificación de la exactitud del sistema de medición automática y evaluación de estadística de resistencia; IT.PPH.510/01 ensayo de tracción sobre alambre de oro para microsoldadura; IT.PPH.514/01 ensayo de microsoldaduras preencapsuladas ante estañado por inmersión y refusión; IT.PPH.520/01 pattern para control de calidad de tintas conductoras; IT.PPT.130.02 crecimiento de dióxido de silicio por métodos húmedo y seco a altas temperaturas; IT.PPT.139.03 difusión de fósforo en silicio a partir de una fuente líquida de oxicloruro de fósforo; IT.PPT.208.01 cálculo de concentración superficial de impurezas y densidad de cargas superficiales fijas; IT.PPT.916.01 equipo bactericida por radiación ultravioleta; IT.PPT.916.02 determinación del número de colonias bacterianas en el agua desmineralizada; IT.PPT.916.03 preparación de solución indicadora de O-tolidina; IT.IFT.036/01 informe de viaje; IT.IFT.139/04 redistribución de boro en silicio; IT.IFT.139/05 oxidación térmica de silicio en una atmósfera con una presión parcial de vapor de agua de 0,66; IT.IFT.139/06 predisposición de boro en silicio; IT.IFT.139/07 difusión de fósforo en silicio; IT.IFT.142/01 cálculo de perfiles de concentración en transistores bipolares con el programa Perfil III; IT.IFT.142/01 dependencia de beta en transistores bipolares con las concentraciones superficiales de emisor y base, y concentración del sustrato; IT.IFT.142/03 Junco: programa para calculadora HP-95 que calcula la modificación de la profundidad de juntura con variaciones en las concentraciones superficiales de base y emisor en transistores bipolares; IT.IFT.142/04 dependencia de características eléctricas de transistores bipolares con la concentración superficial de base; IT.IFT.142/05 programa TOR: cálculo de beta y rupturas en transistores bipolares a partir de parámetros físicos; IT.J.000/01 estructura de la documentación de la División Microelectrónica; IT.J.115/01 hermeticidad; IT.CE.000/01 estructura de los catálogos de materiales en stock y equipos; IT:CE.000/02 organización de compras: pedidos de adquisición; IT:CE.000/03 manejo de materiales en depósito (control de stock).
Unidad técnica: CENICE.
Descriptores: Electrónica; Circuitos; Osciladores; Prototipos; Circuitos híbridos integrados; Receptores; Resistencia eléctrica; Dispositivos; Confiabilidad; Encapsulación; Carga térmica; Lecho fluidizado; Fallas; Porosidad; Laboratorios; Fotografía; Impresiones; Impresoras; Serigrafía; Equipos; Soldadura; Calibración; Velocidad; Hornos; Sinterización; Dióxido de silicio; Altas temperaturas; Mediciones; Técnicas estadísticas; Ensayos de tracción; Microsoldadura; Ensayos; Control de calidad; Tintas; Difusión; Fósforo; Silicio; Concentración; Impurezas; Densidad; Cargas; Bactericidas; Rayos ultravioleta; Métodos de determinación; Bacterias; Agua; Desmineralización; Boro; Oxidación; Presión; Vapor de agua; Transistores; Calculadoras

Trabajo de INTI
  
Ubicación: 1083; 1084; 1085; 1086
Disponibilidad: Consulta in situ



Fin

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